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二氧化硅检验方法--挥散法二氧化硅的测定方法有多种，本篇主要介绍挥散法。 若某个试样中二氧化硅的含量在98%以上，应用氢氟酸挥发重量差减法（即挥散法）来测定SiO2含量。 具体测定步骤如下： 将铂坩埚中测定过烧失量的试样，用少量水润湿，加入4～5滴硫酸及5～7mL氢氟酸，放在电炉上低温加热，挥发至近干时，取下放冷，再加2～3滴硫酸及3～4mL氢氟酸，继续加热挥发至干，然后升高温度，至三氧化硫白烟完全逸尽。将铂坩埚置于高温炉中，于950℃温度下灼烧30分钟，取出放在干燥器中冷至室温，称重。如此反复灼烧，直至恒重。 SiO2=×100 G1——测烧失量时灼烧后试样和坩埚的重量,g； G2——残渣和坩埚的重量,g； G——试样的重量，g； 若试样中SiO2含量在98%以下，采用上述方法测定SiO2将引起较大的误差。这种情况下，宜采用重量法或氟硅酸钾容量法来测定。 上一篇白炭黑的气相应用下一篇橡胶工业中白炭黑和碳黑的区别 |
