超细二氧化硅制造方法

超细二氧化硅/纳米SiO2的制备方法分为物理法和化学法两种。

一、物理法

物理法一般指机械粉碎法。利用超级气流粉碎机或高能球磨机将SiO2的聚集体粉碎可获得粒径1～5微米的超细产品。该法工艺简单但易带入杂质.粉料特性难以控制，制备效率低且粒径分布较宽。

二、化学法

化学法可制得纯净且粒径分布均匀的超细SiO2颗粒。化学法包括化学气相沉积(CVD)法、液相法、离子交换法、沉淀法和溶胶凝胶(Sol-Gel)法等，主要的生产方法还是以四氯化硅为原料的气相法，以硅酸钠和无机酸为原料的沉淀法和以硅酸醋等为原料的溶胶凝胶法。

利用超细二氧化硅庞大的比表面积、表面多介孔结构和超强的吸附能力以及奇异的理化特性，将银离子等功能离子均匀地设计到纳米Si0X表面的介孔中，开发出高效、持久、耐高温、广谱抗菌的纳米抗菌粉，可广泛用于票据、医疗卫生、化学建材、家电制品、功能纤维、塑料制品等行业中。